半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一.利用鎳鉑靶材廢料(主要成分為Ni、Pt以及微量Fe、Al的單質(zhì))采用選擇性溶解法回收鉑并制備硫酸鎳晶體的一種工藝流程如圖:

已知:①王水是按濃鹽酸和濃硝酸的體積比為3:1配制而成
②氧化性H+>Ni2+
③溶液中金屬離子開始沉淀和完全沉淀的pH如表所示:
金屬離子 | Ni2+ | Al3+ | Fe3+ | Fe2+ |
開始沉淀時(shí)(c=0.01mol/L)的pH | 7.2 | 3.7 | 2.2 | 7.5 |
沉淀完全時(shí)(c=1.0×10-6mol/L)的pH | 8.7 | 4.7 | 3.2 | 9.0 |
增大接觸面積,提高反應(yīng)速率和浸取率
增大接觸面積,提高反應(yīng)速率和浸取率
。(2)“轉(zhuǎn)化”時(shí)發(fā)生反應(yīng)的離子方程式為
2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O
2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O
。(3)c(Ni2+)=0.01mol/L,則調(diào)pH應(yīng)控制的pH范圍是
4.7<pH<7.2
4.7<pH<7.2
。(4)在王水中生成二元強(qiáng)酸H2PtCl6,其中Pt元素的化合價(jià)為
+4
+4
。沉鉑過程中發(fā)生的可逆反應(yīng)的化學(xué)方程式為 H2PtCl6+2NH4Cl?(NH4)2PtCl6+2HCl
H2PtCl6+2NH4Cl?(NH4)2PtCl6+2HCl
,結(jié)合平衡移動(dòng)原理分析(NH4)2PtCl6沉淀率隨溫度升高而 增大
增大
(填“增大”、“減小”或“不變”)。(5)“操作1”中包括過濾及沉淀的洗滌,洗滌沉淀時(shí)最好選用下列哪種試劑
C
C
。A.蒸餾水
B.濃鹽酸
C.飽和氯化銨溶液
D.王水
(6)“酸浸”過程中鎳的浸出率與溫度和時(shí)間的關(guān)系如圖所示,“酸浸”的最佳溫度和時(shí)間是
70℃、120min
70℃、120min
。
【考點(diǎn)】物質(zhì)分離和提純的方法和基本操作綜合應(yīng)用.
【答案】增大接觸面積,提高反應(yīng)速率和浸取率;2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O;4.7<pH<7.2;+4;H2PtCl6+2NH4Cl?(NH4)2PtCl6+2HCl;增大;C;70℃、120min
【解答】
【點(diǎn)評(píng)】
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發(fā)布:2024/4/20 14:35:0組卷:16引用:1難度:0.5
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(1)在“還原焙燒”中產(chǎn)生的有毒氣體可能有
(2)“酸浸”時(shí)間一般不超過20min,若在空氣中酸浸時(shí)間過長(zhǎng),溶液中Fe2+含量將下降,其原因是
(3)“中和合成”的目的是將溶液中Fe2+轉(zhuǎn)變?yōu)樘妓醽嗚F沉淀,則操作B是
(4)煅燒A的反應(yīng)方程式是
(5)ag燒渣經(jīng)過上述工藝可得紅氧化鐵bg。藥典標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,制得的紅氧化鐵中含氧化鐵不得少于98.0%,則所選用的燒渣中鐵的質(zhì)量分?jǐn)?shù)應(yīng)不低于發(fā)布:2025/1/19 8:0:1組卷:30引用:1難度:0.5 -
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(1)焙燒時(shí)產(chǎn)生的主要有害氣體是
(2)若在空氣中“酸浸”時(shí)間過長(zhǎng),溶液中Fe2+含量將下降,其原因是:
(3)根據(jù)下表數(shù)據(jù):氫氧化物 Al(OH)3 Fe(OH)3 Fe(OH)2 開始沉淀的pH 3.10 2.01 7.11 完全沉淀的pH 4.77 3.68 9.61
(4)“中和合成”的目的是將溶液中Fe2+轉(zhuǎn)變?yōu)樘妓醽嗚F沉淀,則A的操作是發(fā)布:2025/1/19 8:0:1組卷:12引用:1難度:0.1
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