光制技術(shù)是現(xiàn)代半導(dǎo)體集成電路的關(guān)鍵一環(huán),其工作原理如圖所示,光源發(fā)出強紫外光,調(diào)整鏤空掩膜版和縮圖透鏡之間的距離,使光通過二者后,恰好能在硅片上成清晰的縮圖像,從而實現(xiàn)納米級集成電路的“雕刻”,下列說法中正確的是( )
【答案】D
【解答】
【點評】
聲明:本試題解析著作權(quán)屬菁優(yōu)網(wǎng)所有,未經(jīng)書面同意,不得復(fù)制發(fā)布。
發(fā)布:2024/7/13 8:0:9組卷:122引用:1難度:0.7
相關(guān)試卷