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光刻機采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上,是制造芯片的核心裝備.ArF準分子激光是光刻機常用光源之一,其波長為0.000000193米,該光源波長用科學記數法表示為( ?。?/h1>

【答案】C
【解答】
【點評】
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發(fā)布:2024/7/8 8:0:10組卷:283難度:0.8
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